·Ò¾ØÇϽº '°¡Ã³ºÐ' ±â°¢
SKC(´ëÇ¥ ¹ÚÀå¼®)´Â ½Å±Ô»ç¾÷ Áß ÇϳªÀÎ CMP(Chemical Mechanical Polishing) Æеå¿Í °ü·Ã ·Ò¾ØÇϽºÀÇ `ƯÇã±ÇħÇرÝÁö °¡Ã³ºÐ½Åû' »ç°Ç Ç×°í½É¿¡¼µµ ½Â¼ÒÇß´Ù°í ¹àÇû´Ù.
·Ò¾ØÇϽº´Â Áö³ 2005³â 1¿ù 4ÀÏ SKC¸¦ »ó´ë·Î ¼ö¿øÁö¹æ¹ý¿ø¿¡ `ƯÇã±ÇħÇرÝÁö °¡Ã³ºÐ½Åû'À» ÇØ ±× ÇØ 9¿ù22ÀÏ ·Ò¾ØÇϽº °¡Ã³ºÐ½Åû¿¡ ´ëÇÑ ±â°¢°áÁ¤ÀÌ ³»·ÁÁ³À¸¸ç, ÀÌ¿¡ ºÒº¹ÇØ ¼¿ï°íµî¹ý¿ø¿¡ Áï½Ã Ç×°í¸¦ Çß¾ú´Ù. À̹ø ÀçÆǺΰ¡ Áö³ 9¿ù 11ÀÏ `SKCÀÇ CMP Æеå´Â ·Ò¾ØÇϽºÀÇ Æ¯Ç㸦 ħÇØÇÏÁö ¾Ê¾Ò´Ù'¸ç ±â°¢°áÁ¤À» ³»·È´Ù.
SKC´Â ¹ÝµµÃ¼ ¿þÀÌÆÛ¸¦ ÆòźÈÇÏ´Â °øÁ¤¿¡ »ç¿ëµÇ´Â CMP Æе带 ´Ù³â °£ÀÇ ¿¬±¸°³¹ß ³¡¿¡ ±¹»êÈÇØ 2004³âºÎÅÍ ±¹³» ¹ÝµµÃ¼¾÷ü¿¡ ³³Ç°, »ó¾÷ ¸ÅÃâÀ» °³½ÃÇßÀ¸¸ç, ±¹³» ¹ÝµµÃ¼¾÷ü·ÎºÎÅÍ Ç°ÁúÀÎÁõ¼¸¦ ȹµæÇß´Ù. ±×¸®°í, ÇöÀç ±¹³» ¹× ÇØ¿Ü µîÀ» Æ÷ÇÔ CMP ÆÐµå °ü·Ã ´Ù¼öÀÇ Æ¯Ç㸦 µî·Ï ¶Ç´Â Ãâ¿ø Áß¿¡ ÀÖ´Ù.
SKC °ü°èÀÚ´Â "À̹ø °áÁ¤À¸·Î SKCÀÇ Á¦Ç° ¹× ±â¼ú¿¡ ´ëÇÑ Ã¢Á¶¼º°ú Áøº¸¼ºÀ» ÀÎÁ¤¹ÞÀº ¸¸Å ÇâÈÄ CMP ÆеåÀÇ »ý»ê¼º Çâ»ó¿¡ ¸ÅÁøÇØ °í°´°ú ÇÔ²² ¹ÝµµÃ¼ »ê¾÷ÀÇ ¹ßÀü¿¡ Å©°Ô ±â¿©ÇÏ°Ú´Ù"°í ¸»ÇßÀ¸¸ç, À̹ø °áÁ¤À¸·Î CMP ÆеåÀÇ º»°ÝÀûÀÎ ¸ÅÃâ ¼ºÀåÀÌ ÀÌ·ïÁú °ÍÀ¸·Î ±â´ëÇß´Ù.
ÇÑÆí ·Ò¾ØÇϽº ÃøÀº ÀÌ »ç°ÇÀ» ´ë¹ý¿øÀ¸·Î±îÁö °¡Á®°¥ ¿ëÀÇ°¡ ÀÖ´Ù°í ¹àÇûÀ¸¸ç ÇöÀç °è·ùÁßÀÎ SKC¿ÍÀÇ `ƯÇ㹫ȿ ¹× ¼Ò±ØÀû ±Ç¸® ¹üÀ§ È®ÀνÉÆÇ'µµ ½Â¸®·Î À̲ø°Ú´Ù´Â ÀÇÁö¸¦ ³»ºñÃç ÇâÈÄ CMP ÆÐµå °ü·Ã ¾ç»ç ºÐÀïÀÌ Áö¼ÓµÉ °ÍÀ¸·Î º¸ÀδÙ.
|